EUV litografie je už dlouhá léta probíraná technologie, jejíž nástup byl několikrát ohlášen a vždy zatím pozdržen. Jedná se o slibnou technologii pro stále pokročilejší procesy, kterou však zatím ještě nebylo nutné nasadit. Ale to se může brzy změnit.
Co je RTX AI
Web Světhardware.cz přináší velký přehled o NVIDIA RTX AI ve vašem počítači a popisuje spolehlivou a bezpečnou cestu, jak si na svém počítači vytvořit lokální umělou inteligenci.
Extreme Ultraviolet Lithography (EUV)
je téma, které je staré mnoho let, však na našem serveru se v roce 2001 objevila zpráva, dle níž měla být tato technologie využita už na 45nm výrobním procesu. Nicméně nestalo se tak, stejně jako později v případě 32, 28, 20, 16, 14 a nebude to ani na 10nm procesu. Už jen z toho je vidět, jak nejisté jsou předpoklady pro vývoj nových výrobních procesů pro počítačové čipy a v poslední době jsme mohli uvažovat, zda EUV vůbec bude někdy využita. Blíží se totiž konec neustálého zmenšování tranzistorů v křemíkových čipech a sám Intel předpokládá, že
nutný přechod na nové výrobní technologie
značně naboří dogma o nutnosti zvyšovat výkon, čímž ukončí platnost Mooreova zákona.
- Moderní výrobní technologie II: EUV litografie a její alternativy
Nicméně do té doby se můžeme těšit ještě na další stupně vývoje křemíkových čipů, respektive na 10nm, 7nm a snad i 5nm čipy. Čeká se přitom na to, kdy a zda do některého z těchto procesů zasáhne právě nutnost využití EUV, přičemž je už zřejmé, že na 10nm to ještě nebude. Nedávno na SPIE Advanced Lithography Symposium ale mluvil Christopher Mack z Intelu, uznávaný expert na výrobní procesy, který se na téma EUV vyjádřil optimisticky, ale s opatrností. Mluvil o tom, že Intel již provozuje v několika svých továrnách nástroje (jako ten od ASML na fotografii) pro zkoumání možností výroby pomocí EUV, přičemž ještě před rokem měl pouze jeden.
Tato technologie se tedy dále vyvíjí a zaznamenáno bylo výrazné snížení míry výskytu defektů, ale stále tu zůstává jeden velký problém. Jde o vytvoření vhodného ochranného filmu, který má zabránit znečištění fotomasky. Stejně tak bude nutné nasadit mnohem výkonnější nástroje, než jaké jsou dnes k dispozici. Intel dnes využívá nástroje s 80W zdrojem laseru pro vytvoření plazmy, přičemž dle
budou zapotřebí mnohem silnější. Testy v GlobalFoundries ukázaly, že aby se EUV vyrovnala imerzní litografii, chtělo by to cca 350 až 400W zdroj, přičemž ASML a Gigaphoton teprve vyvíjejí 250W EUV zdroje.
EUV zdroj
Nicméně Christopher Mack uvedl, že všeobecný pohled na EUV jako řešení pro budoucí generace výrobních procesů se v poslední době změnil, a to k lepšímu. Poukázal přitom na to, že EUV prostě bude nutné nasadit, aby bylo vůbec možné zprovoznit již ohlášené výrobní technologie. Jenomže to vše je ještě v budoucnosti, kam nikdo nedohlédne.
Mack přitom použil předpoklad, který má svůj název: Sturtevantův zákon, jenž je v platnosti už cca 30 let. Jde jednoduše o to, že vývojáři nových výrobních procesů vždy ví, o čem bude bezprostředně příští krok v horizontu 2 až 3 let. O následujícím procesu mají také poměrně reálnou představu, ale o tom dalším už nemohou s určitostí říci vůbec nic. Tento zákon tak s trochou nadsázky říká, že konec klasické optické litografie se vždy nachází v horizontu 6 až 7 let a vždy tomu tak bude. Jenomže podobně jako Mooreovu, i Sturtevantovu zákonu už má docházet dech, neboť firmy zjišťují, že nevidí nejen na tři, ale už ani na dva kroky dopředu. Kvůli tomu se blíže posunuje i předpokládaný konec optické litografie a je zřejmé, že realita a neustále odkládaný předpoklad se už asi brzy potkají.
To ale také znamená, že se firmy budou muset více zaměřit na vývoj EUV, přičemž Intel i TSMC mluví o jejím nasazení na 5nm procesu. Pokud máme ale Macka vzít za slovo, tak můžeme říci, že 7nm proces je zatím velká otázka a EUV na 5nm procesu bude využita jen v případě, že vývoj 7nm technologie půjde dobře. Jisté je zatím jen to, že není jisté vůbec nic, ale dá se říci, že šance pro využití EUV se zvýšily.
Zdroj:
