reklama
Aktuality  |  Články  |  Recenze
Doporučení  |  Diskuze
Grafické karty a hry  |  Procesory
Storage a RAM
Monitory  |  Ostatní
Akumulátory, EV
Robotika, AI
Průzkum vesmíru
Digimanie  |  TV Freak  |  Svět mobilně

Intel potvrzuje, že jako první nasadí High-NA EUV skenery EXE:5200 od ASML

19.1.2022, Jan Vítek, aktualita
Intel potvrzuje, že jako první nasadí High-NA EUV skenery EXE:5200 od ASML
Společnost Intel se už sama pochlubila tím, že se jako první dostane k příští generaci EUV skenerů firmy ASML, které budou použity pro dosud ještě stále vyvíjené výrobní procesy. Právě to má být jízdenka Intelu vedoucí zpět na vrchol.
O záměru Intelu pořídit si jako první výrobce čipů na světě High-NA EUV skenery od firmy ASML jsme už dávno věděli, ale nyní to máme oficiálně potvrzeno a dozvídáme se detaily, o co konkrétně tu půjde. Intel tak hodlá v tomto ohledu předběhnout svou konkurenci, čili Samsung i TSMC, a bude mít tedy zřejmě i příležitost dostat se opět do čela ve vývoji výrobních procesů pro počítačové čipy. 
 
 
Už ze starších zpráv tak víme, že éra EUV skenerů označených jako High-NA má začít už v příštím roce a v případě Intelu půjde o výrobní zařízení, které bude použito ve výrobním procesu Intel 18A, který by se dal označit jako 1,8nm, ovšem ten samotný je chystán až na rok 2025. To je vcelku pochopitelné, neboť Intel stejně jako ostatní výrobci bude muset svou novou technologii pomocí prvních High-NA skenerů připravit, dokončit vývoj a až pak může pomýšlet na rozjetí výroby. 
 
Mezi dnešním 10nm procesem (Intel 7) a 18A se ale v roadmapě nachází ještě tři další, a to Intel 4 (dříve 7nm), dále Intel 3 a pak ještě 20A, takže pokud chce Intel skutečně cílit už na rok 2025, bude muset nyní postupovat nebývalým tempem, které prostě znamená roční kadenci. 
 
 
Intel také potvrzuje, že dané skenery s High-NA optikou umožňující tvořit na waferech ještě menší detaily, než dovolují dnešní EUV skenery, patří už do rodiny TwinScan EXE:5000 a konkrétně pak půjde o verze EXE:5200 s 0,55 NA. Tyto stroje mají být schopny zpracovat více než 220 waferů za hodinu a jak ukazuje roadmap firmy ASML, předcházet jim budou základní EXE:5000 zpracovávající "jen" 185 waferů za hodinu, ovšem i to je vzhledem k dnes fungujícím Low-NA modelům z řady NXE:3000 více než slušné. 
 
 
Právě modely EXE:5000 mají být dostupné už od druhé poloviny tohoto roku, takže si můžeme představit, že je Intel použije ve vývoji a pro samotný proces 18A už využije vylepšenou a výkonnější verzi EXE:5200, ostatně ta by už měla být v roce 2025 k dispozici a nejdříve by ji tedy měl v praxi nasadit Intel. 
 
Zdroj: TZ Intel via Yahoo! Finance


reklama