
Nové SRAM buňky využívají materiál HKMG (high-k / metal gate) a šetří prostor díky využití vertikálních tranzistorů FinFET namísto konvenčních tranzistorů s rovinným hradlem. Výzkumníci rovněž úspěšně simulovali využití tranzistorů FinFET pro buňky SRAM zabírající prostor 0,063 um2 a dle výsledků by tyto tranzistory měly nabídnout daleko stabilnější provoz než rovinné FET díky tomu, že umožní průchod většího množství proudu, čímž se mají zlepšit přepínací schopnosti.
Nová technologie je tak zúčastněnými firmami viděna jako výrazný krok dopředu pro využití ve výrobě pomocí 22nm i pokročilejšího procesu.
Zdroj: X-bit labs