Společnost TSMC dosud ve svých plánech na budoucnost končila u 2nm procesu. Nedávno ale vyplynulo na povrch, že je logicky v plánu i další pokračování a nástupcem 2nm procesů by měla být 1,4nm varianta.
1,4nm proces zavisi od Nizoremska lepšie povedane od jeho otrokara USA, či im dovoli vyviesť EUVL stroje na Taiwan. EUV stroje (12nm širka luča) ešte s odretimi ušami zvladaju 2nm proces, ale na 1,4 už potrebuju EUVL stroje (9nm širka luča) Najvačšia prasaren bude ale maska, vyrobiť 1,4nm litograficke masky bude celkom sranda. Napriklad Intel nezvlada ani 7nm masku vyrobiť. Intelu sa už par rokov valaju EUVL stroje ktore im vybavila USA armada s Nizozemska, ale proste nevedia urobiť bezchybnu masku ani pre 7nm a to už intel sniva o 2nm či 1,8nm :)