O další vývoj lithografické technologie se zasloužili experti dílen International Sematech workshop koncem minulého měsíce (8/2001). Nicméně, ačkoli se již na vývoji nových NGL (next-generation lithography) nástrojích pracuje, nebude se...
reklama
14.9.2001, Petr Klabazňa, aktualita
Nový komentář k článku
Pro přidání komentáře se přihlaste (vpravo nahoře). Pokud nemáte profil, zaregistrujte se pro využívání dalších funkcí.
reklama
reklama
Z dalších serverů
reklama
reklama