reklama
Aktuality  |  Články  |  Recenze
Doporučení  |  Diskuze
Grafické karty a hry  |  Procesory
Storage a RAM
Monitory  |  Ostatní
Akumulátory, EV
Robotika, AI
Průzkum vesmíru
Digimanie  |  TV Freak  |  Svět mobilně

Intel samostatně pracuje na 7nm EUV procesu, slibuje dvojnásobnou hustotu oproti 10nm

7.12.2018, Jan Vítek, aktualita
Intel samostatně pracuje na 7nm EUV procesu, slibuje dvojnásobnou hustotu oproti 10nm
Intel ve své prezentaci na Nasdaq Investors' Conference ohlásil, že na cestě je jeho 7nm proces využívající technologii EUV. Ten přitom oproti stále ještě vyvíjenému 10nm procesu DUV slibuje dvojnásobnou hustotu tranzistorů. 
Intel se v poslední době viditelně snaží informovat o tom, jaké výrobní procesy chystá do budoucnosti. Tento přístup k informování veřejnosti se tak změnil s tím, jak se Intel dostal do potíží a přirozeně se obává o to, že mu investoři přestanou věřit. My dobře víme o tom, jak Intel bojuje s rozšířením výroby pomocí 10nm procesu, o němž mluví jako o DUV (Deep UltraViolet). S jeho pomocí vyrábí jen omezené množství mobilních procesorů, které navíc svými vlastnostmi nad 14nm modely zrovna nevyčnívají. Navíc se už nějakou dobu mluví o tom, že dnes vyvíjený 10nm proces je jen stínem toho, co Intel plánoval před několika lety, ale to budeme moci nejlépe posoudit až poté, co budou na trh uvedeny stěžejní produkty a ty se nezávisle prozkoumají. 
 
 
Nyní to navíc vypadá, že 10nm proces by mohl být v Intelu nevýznamný a jen krátce využívaný, což by ostatně svým způsobem potvrdilo informace o tom, že se z něj vyvinulo něco jiného, než firma zamýšlela. Tím pravým by měla být až 7nm technologie využívající EUV (Extreme UltraViolet), která má oproti 10nm nabídnout dvojnásobnou hustoru tranzistorů. To samé přitom Intel sliboval právě pro 10nm technologii oproti 14nm. 
 
Intel se už dříve netajil s tím, že EUV nasadí až později, tedy ne příští rok jako TSMC či Samsung. Tím pádem se měla jeho 10nm technologie značně spolehnout na multipatterning s využitím osvěcování waferů 193nm zářením. Ve výsledku to měl být dokonce quad-patterning a právě to se ukázalo jako největší problém, který se nepodařilo překonat. 
 
A že 7nm proces Intelu už využije EUV se zdrojem pouze 13,5nm ultrafialového světla, techniky multipatterningu se budou moci značně omezit či na některých vrstvách snad i vypustit. K tomu nutno říci, že 7nm proces je vyvíjen samostatně a nezávisle na 10nm procesu, takže i zcela jiným týmem lidí. Intel sděluje, že 7nm proces je na cestě a dorazí přesně dle roadmap. Jenomže ty alespoň zatím nebyly zveřejněny, takže nemáme tuchu o tom, kdy to bude. Uvažovat však lze o konci roku 2020 jako o nejbližším termínu. 
 
Co to vše znamená? Vypadá to, že hlasy upozorňující na značně sesekaný 10nm proces skutečně mohou mít pravdu a dle těchto informací to vypadá, že oproti 14 nm technologii nepůjde o velký posun. Záleží však především na tom, co Intel myslel tím, že uspíší nástup 7nm technologie. Ta totiž měla dle původního plánu dorazit asi 4 roky po 10nm, takže někdy v roce 2022. Nejlepší vodítko by tak bylo, kdybychom se dozvěděli, kdy 7nm proces dorazí dle nového plánu, takže to můžeme zatím uzavřít tak, že 10nm proces je stále plánován na konec příštího roku a do té doby se snad ukáže, jak na tom bude. 
 
Nakonec tu je ještě informace, že Intel doposud zmínil pouze jediný plánovaný 7nm provoz, a to bude Fab 42 v Arizoně. Další by ale rozhodně měly následovat. 
 
Zdroj: Anandtech


reklama