Samsung hlásí, že na trh dodal již milion modulů s EUV paměťmi

Extrémní ultrafialovou litografii (EUVL) obvykle vidíme jako technologii pro výrobu složitých čipů pomocí 7nm či pokročilejších procesů. Samsung ale nyní hlásí, že tuto litografii využil k výrobě pamětí DDR4 DRAM pomocí procesu D1x, čili 10nm třídy. Jde tak o technologii s rozlišením někde nad 10 nm, ostatně při výrobě pamětí se běžně neudává přesné rozlišení daného procesu, ale z tabulky uvedené níže se dozvíme, že jde už o 4. generaci v rámci 10nm třídy. 

 

 

Samsung už dokázal do světa vyslat celý jeden milion modulů s těmito paměťmi, které už byly jeho zákazníky otestovány a stanou se součástí nabídky PC, notebooků, podnikových serverů i datacenter. 

 

Firma Samsung se tak může pochlubit, že jako první nasadila EUV/EUVL při výrobě paměti DRAM a mluví o tom, že tato technologie jí umožní překonat problémy se škálováním DRAM. Nejspíše tak půjde především o škálování výroby, ale to už nebylo uvedeno. Vycházet ale můžeme z toho, že Samsung pokračuje výhodami nasazení EUV, které představují snížení počtu výrobních kroků díky tomu, že se nemusí (tak často) využívat multi-patterning a také se zvyšuje přesnost, respektive snižuje riziko chyb. Díky EUV se tak Samsung může těšit z vyšší výtěžnosti, výkonu pamětí i zkrácené doby vývoje a rozjetí výroby. 

 

 

EUV už bude plně nasazeno počínaje výrobou pamětí DRAM pomocí procesu D1a (stále 10nm třída), což se bude týkat především DDR5 a LPDDR5. Jejich produkce má odstartovat v příštím roce a právě i díky EUV má později dosáhnout oproti D1x dvojnásobné kapacity s ohledem na počet zpracovaných waferů. V druhé polovině tohoto roku navíc začne výroba na druhé lince v jihokorejské továrně v Pchjongtchek.

 

Zdroj: TZ Samsung