Recenze  |  Aktuality  |  Články
Doporučení  |  Diskuze
Grafické karty
Chlazení a skříně
Ostatní
Periférie
Procesory
Storage a RAM
Základní desky
O nás  |  Napište nám
Facebook  |  Twitter
Digimanie  |  TV Freak
Svět mobilně  |  Svět audia

TSMC začíná s vývojem 1,4nm výrobního procesu

, , aktualita
TSMC začíná s vývojem 1,4nm výrobního procesu
Ve světě výroby čipů se již řadu let mluví o vývoji procesů, které už se budou označovat číslem 1 či 2 nm a nyní dostávají přesnější obrysy s využitím desetin nanometrů. V případě firmy TSMC to bude konkrétně 1,4nm technologie. 
TSMC začíná s vývojem 1,4nm výrobního procesu
Pokud jde o desetiny nanometrů, zajímavým způsobem se odlišil Intel, který začal své nejpokročilejší plánované procesy, jaké zatím představil, označovat jako 20A či 18A. Písmeno A zde znamená metrickou jednotku délky angstrom (správný symbol je však Å dle Anderse Jonase Ångströma), která odpovídá 10-10 metru. A to je právě desetina nanometru, čili 18A odpovídá 1,8nm procesu.
 
To samozřejmě jen pokud to vezmeme doslova, neboť je dobře známo, že toto prosté označování výrobních procesů je už spíše otázka marketingu než techniky. Nicméně se stále využívá a využívat bude, jak ukazuje právě i TSMC a jeho chystaný 1,4nm proces. 
 
 
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) už dříve uvedla, že její 2nm proces má vstoupit do běžné výroby v roce 2025, takže nyní už je čas pomalu chystat další, který by mohl nastoupit o cca 2, spíše pak 3 roky později. Půjde tedy o 1,4nm proces (N1.4?), o němž tedy zatím kolují jen nepotvrzené informace, ovšem TSMC by tuto novinku dle nich mělo formálně představit během června. Ostatně právě na červen spadá firemní Technology Symposium, což bude vhodná příležitost pro takové oznámení. 
 
Zatím se dozvídáme to, že by na 1,4nm procesu měl pracovat stejný tým, který připravil už aktuální 3nm technologii N3. Ten bude zřejmě na samotném začátku celé procedury, která se obvykle skládá ze třech kroků: pathfinding, research a development. Právě v prvním kroku jde především o to zjistit, jaké materiály a postupy budou pro novou technologii vhodné, ovšem to už by TSMC mohlo mít případně vyřešeno už v rámci vývoje 2nm procesu. 
 
N2 totiž poprvé v TSMC uplatní tranzistory GAAFET, a přitom ještě stále aktuální EUV litografické stroje s numerickou aperturou 0,33 NA. Je tak možné, že N1.4, či jak se bude jmenovat, si už vyžádá zapojení modernějších EUV strojů s 0,55 NA, které jsou označovány také jako High-NA EUV (viz ASML: cesta z boudy ke světové dominanci). To by znamenalo, že TSMC nasadí tuto pokročilejší výbavu o cca 3 roky po Intelu, který se ostatně netají tím, že je chce nasadit jako první a také je od ASML dostane jako první.


reklama