NEC a Toshiba budou spolupracovat s IBM na vývoji 28nm technologii
19.6.2009, Jan Vítek, aktualita
Společnosti NEC Electronics a Toshiba oznámily, že se připojí k firmě IBM a dalším, aby společně vyvinuly 28nm výrobní proces využívající high-k dielektrika. Tato aliance má stavět na předchozím úspěchu s vývojem 32nm HKMG technologie a...
Společnosti NEC Electronics a Toshiba oznámily, že se připojí k firmě IBM a dalším, aby společně vyvinuly 28nm výrobní proces využívající high-k dielektrika. Tato aliance má stavět na předchozím úspěchu s vývojem 32nm HKMG technologie a cílem je přechod na 28nm s co nejmenšími nutnými změnami a rizikem. Kromě toho by firmy rády dosáhly co nejnižších nákladů a rychlého komerčního nasazení.
Již dříve firmy Toshiba a NEC spolupracovaly na vývoji 32nm a 45nm výrobní technologie, k čemuž se v případě 32 nm měla přidat také Sony, ale ta se v roce 2007 z tohoto podniku stáhla, takže vše zůstalo na berech Toshiby a NEC.
Nyní se bude vše odehrávat v továrně IBM v East Fishkill, New York a celá aliance nyní zahrnuje společnosti Chartered Semiconductor Manufacturing, Globalfoundries, Infineon Technologies, NEC Electronics, Samsung Electronics, STMicroelectronics a Toshibu.
Zdroj: X-bit labs
Již dříve firmy Toshiba a NEC spolupracovaly na vývoji 32nm a 45nm výrobní technologie, k čemuž se v případě 32 nm měla přidat také Sony, ale ta se v roce 2007 z tohoto podniku stáhla, takže vše zůstalo na berech Toshiby a NEC.
Nyní se bude vše odehrávat v továrně IBM v East Fishkill, New York a celá aliance nyní zahrnuje společnosti Chartered Semiconductor Manufacturing, Globalfoundries, Infineon Technologies, NEC Electronics, Samsung Electronics, STMicroelectronics a Toshibu.
Zdroj: X-bit labs
