Texas Instruments oznamuje 45nm výrobní technologii

Společnost Texas Instruments oznámila použití nového výrobního procesu pro výrobu čipů. Bude se jednat o 45nm výrobní proces, který však využije "mokrou" ponořovací litografii. Ta využije toho, že mezi laser a wafer se dá vrstva kapaliny, postačí i voda. Tento proces pak dovoluje zaostřit paprsek mnohem lépe než by toho byla schopna samotná čočka.



Díky této technologie je možné vyrobit paměťovou buňku poloviční velikosti té, co by byla vyrobena 65nm technologií, její velikost činí pouhých 0,24 čtverečního mikronu. Intel zatím dokázal vyprojektovat 45nm paměťové buňky o velikosti 0,346 čtverečního mikronu, společnost však používá tradiční litografii.

Podle společnosti Texas Instruments by měly mít nové čipy až o 30% vyšší výkon, přitom spotřeba by měla klesnout o 40%. Tyto čipy by měly najít využití zejména jako procesory v mobilních telefonech nebo jako DSP procesory. U mobilních telefonů se tak například zrychlí aplikace, zejména přehrávání videa a dalším pozitivem bude i delší výdrž.

První vzorky čipů by se měly objevit v roce 2007, velkosériová produkce by měla začít v polovině roku 2008.

Zdroj: www.ti.com