reklama
Aktuality  |  Články  |  Recenze
Doporučení  |  Diskuze
Grafické karty a hry  |  Procesory
Storage a RAM
Monitory  |  Ostatní
Akumulátory, EV
Robotika, AI
Průzkum vesmíru
Digimanie  |  TV Freak  |  Svět mobilně

Čína spěchá, 7nm proces v SMIC odstartuje ve 4. čtvrtletí, poté bude vylepšen

7.4.2020, Jan Vítek, aktualita
Čína spěchá, 7nm proces v SMIC odstartuje ve 4. čtvrtletí, poté bude vylepšen
Čínská společnost SMIC je v poslední době často zmiňovaná v souvislosti s firmou Huawei, kterou se Američané snaží odstřihnout od kapacity tchaj-wanské TSMC. Čína pochopitelně nečeká se založenýma rukama, jak to dopadne.
Pro společnost Huawei je naprosto nezbytné mít k dispozic alespoň 7nm proces, bez nějž by ve světě telekomunikací 5G nebyla konkurenceschopná, respektive by do něj ani nemohla patřit. USA se přitom aktuálně snaží o to, aby TSMC ukončilo spolupráci s HiSilicon, čili prostředníkem, přes nějž Huawei získává na Tchaj-wanu vyrobené čipy a hrozba je to přitom velice reálná. 
 
 
Čína tak aktuálně značně investuje do vývoje 7nm technologie ve vlastní společnosti SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) a dle cnTechPost by během 4. kvartálu měla skutečně odstartovat výroba daným procesem, ovšem zatím v "malém měřítku". Jde přitom o 7nm proces označovaný jako N+1 a je otázka, jaké budou jeho kvality, výtěžnost či kapacita. Nevíme ale především to, zda ke konci roku odstartuje už běžná výroba, nebo taková, kterou jinde označují za tzv. risk production, v níž se počítá s nízkou výtěžností, ovšem je zřejmé, že na náklady odrážející skutečné finanční možnosti firmy SMIC se zde moc nehraje. 
 
Dozvídáme se totiž, že ačkoliv tržby za celý předchozí rok v této firmě dosáhly cca 3 miliard dolarů, v tomto roce se investiční výdaje dostanou na 3,1 miliardy, což by si žádná firma bez finanční podpory nemohla dovolit. Mezi to se počítají 2 miliardy na stavbu továrny pro 300mm wafery v Šanghaji a 500 milionů na rozšíření továrny v Pekingu. 
 
Proces N+1 má oproti 14nm FinFET používanému rovněž v SMIC nabídnout o 20 % vyšší výkon, snížení spotřeby o 57 % a velikosti stejně složitého čipu o 63 %. N+1 ještě nevyužije technologii EUVL, ale později se dočká nástupce v podobě N+2, což bude vylepšený proces v analogii na 12nm technologii, která vystřídala původní 14nm. N+2 by přitom později už v některých krocích mohl využít EUV litografii. 


reklama