Na litografické stroje využívající EUV záření spoléhají všechny firmy, které se posunuly, nebo se teprve chystají jít za 7nm proces, respektive 7 nm lze brát jako bod zlomu, po němž už bude EUV v podstatě nutnost k tomu, aby výroba mohla rozumně probíhat. ASML je přitom jediná společnost na světě, která zvládla vývoj EUV litografických strojů, kde jde především o úskalí spojená s tvorbou EUV záření a jeho zaostření na wafer přes litografickou masku.
Co se tedy přihodilo? Dříve v tomto týdnu postihl berlínskou továrnu ASML, kde se tvoří optické komponenty pro EUV litografické skenery a firma ještě v pátek neměla vyhodnoceno to, jaký může být dopad na jejich výrobu. Jde přitom o požár, který zasáhl asi 200 čtverečných metrů výrobní plochy a samotnou továrnu neměl příliš poškodit, ostatně ta celá má plochu kolem 32 tisíc metrů čtverečných. Otázka je, jak je tomu v případě instalované výbavy a především plánovaných dodávek.
V případě EUV strojů ASML se přitom počítá v podstatě každý vyrobený kus, neboť firma má roční kapacitu jen v řádu desítek a letos chce konkrétně dodat na trh celkem 55 skenerů Twinscan NXE:3600D. Moderní továrna na výrobu paměťových čipů DRAM přitom potřebuje zhruba 2 až 9 takových zařízení a v případě výroby logických čipů to může být 9 až 18.
Firma přitom hlásila, že výroba jejích zařízení pro měření a kontrolu waferů nebyla ovlivněna vůbec, v případě klasických DUV strojů už byla krátce po požáru obnovena, takže tato událost ovlivnila skutečně především výrobu EUV strojů a ASML nyní zkoumá své možnosti, jak minimalizovat dopady s ohledem na zákazníky, což se týká výroby nových strojů i údržby těch již instalovaných.
Více se dozvíme pravděpodobně až 19. ledna, kdy ASML zveřejní své finanční výsledky za poslední kvartál roku 2021, čili i za celý rok. Právě na ten den byly slíbeny další infromace.
